干涉光刻

Photonic crystal and photonic quasicrystal patterned in PDMS surfaces and their effect on LED radiation properties

ty10086 提交于 周四, 08/26/2021 - 13:21
Abstract(#br)We present results of fabrication and implementation of thin polydimethylsiloxane (PDMS) membranes with patterned surface for the light emitting diode (LED). PDMS membranes were patterned by using the interference lithography in combination with embossing technique. Two-dimensional photonic crystal and photonic quasicrystal structures with different period were patterned in the surface of thin PDMS membranes with depth up to 550\u003cce:hsp sp=\"0.25\"/\u003enm.

Fabrication of Tapered 3D Microstructure Arrays Using Dual-Exposure Lithography (DEL).

ty10086 提交于 周四, 08/26/2021 - 12:43
三维( 3D )微结构阵列( MSAs )通过提供超疏水表面、细胞相互作用的形貌、光学衍射等,在材料科学和生物医学应用中得到了广泛的应用。这些特性可以通过微结构形状、尺寸、锥度和长径比的工程来调节。然而,目前的制作方法往往过于复杂、昂贵或低吞吐量。这里,我们提出了一种利用双曝光光刻( DEL )和软光刻技术制备锥形3D MSAs的低成本方法。DEL用条状图案的薄膜掩模曝光SU-8光刻胶两次。掩膜在曝光之间( 90°或45° )重新定向,形成一个双曝光区域的阵列。两个曝光的强度分布重叠并在未曝光区域创建了一组3D过切的微口袋。这些微口袋在聚二甲基硅氧烷( PDMS )中被复制成DEL- MSAs。DEL- MSA的形状和尺寸通过改变DEL参数(如曝光能量、曝光间等待时间和光罩重新定向角度)来调节。此外,我们还对DEL- MSAs的各种性能进行了表征,并研究了其形状和尺寸的影响。与普通PDMS表面相比,所有DEL- MSA均表现出光学衍射能力,疏水性增强。疏水性和衍射角可根据MSA的形状和长径比进行调节。在所制备的五个MSA中,两个最高的DEL- MSA表现出超疏水性(接触角\u003e 150° )。此外,这些最高的结构还显示了模式蛋白(分辨率为6 - 7μm )和哺乳动物细胞,分别通过微接触印刷和直接培养。

采用双曝光光刻( DEL )技术制备锥形三维微结构阵列。

ty10086 提交于 周三, 08/25/2021 - 16:51
三维( 3D )微结构阵列( MSAs )通过提供超疏水表面、细胞相互作用的形貌和光学衍射等,在材料科学和生物医学领域得到了广泛的应用。这些性能可通过微结构形状、尺寸、锥度和长径比的工程调整。然而,目前的制备方法往往过于复杂、昂贵或低通量。在这里,我们提出了一种利用双曝光光刻( DEL )和软光刻技术制作锥形三维MSA的低成本方法。DEL用条状图案的薄膜掩模曝光SU-8光刻胶两次。面罩在曝光量( 90°或45° )之间重新定向,形成双曝光区域阵列。两种曝光的强度分布重叠,在未曝光区域形成了一个3D超切微袋阵列。将这些微袋复制到聚二甲基硅氧烷( PDMS )中的DEL- MSAs中,通过改变DEL参数(如曝光能量、曝光间等待时间和光掩模重取向角)来调节DEL- MSAs的形状和尺寸。进一步,我们对我们的DEL- MSAs的各种性质进行了表征,并研究了它们的形状和尺寸的影响。与普通PDMS表面相比,所有DEL - MSA均表现出光学衍射能力,疏水性增强。根据MSA的形状和长径比可调节疏水性和衍射角。在所制备的5种MSA中,两个最高的DEL- MSA表现出超疏水特性(接触角\u003e 150° ),此外,这些最高的结构还通过微接触印刷和直接培养分别表现出~ 6 - 7μm分辨率的模式化蛋白和哺乳动物细胞。