采用双曝光光刻( DEL )技术制备锥形三维微结构阵列。
三维( 3D )微结构阵列( MSAs )通过提供超疏水表面、细胞相互作用的形貌和光学衍射等，在材料科学和生物医学领域得到了广泛的应用。这些性能可通过微结构形状、尺寸、锥度和长径比的工程调整。然而，目前的制备方法往往过于复杂、昂贵或低通量。在这里，我们提出了一种利用双曝光光刻( DEL )和软光刻技术制作锥形三维MSA的低成本方法。DEL用条状图案的薄膜掩模曝光SU-8光刻胶两次。面罩在曝光量( 90°或45° )之间重新定向，形成双曝光区域阵列。两种曝光的强度分布重叠，在未曝光区域形成了一个3D超切微袋阵列。将这些微袋复制到聚二甲基硅氧烷( PDMS )中的DEL- MSAs中，通过改变DEL参数(如曝光能量、曝光间等待时间和光掩模重取向角)来调节DEL- MSAs的形状和尺寸。进一步，我们对我们的DEL- MSAs的各种性质进行了表征，并研究了它们的形状和尺寸的影响。与普通PDMS表面相比，所有DEL - MSA均表现出光学衍射能力，疏水性增强。根据MSA的形状和长径比可调节疏水性和衍射角。在所制备的5种MSA中，两个最高的DEL- MSA表现出超疏水特性(接触角\u003e 150° )，此外，这些最高的结构还通过微接触印刷和直接培养分别表现出~ 6 - 7μm分辨率的模式化蛋白和哺乳动物细胞。