DBD

利用等离子体技术在PDMS (聚二甲基硅氧烷)基片上沉积碳涂层的过程被广泛应用于从电子到生物的大量研究中。因此，对其功能性质，包括摩擦学性能的潜在改善显得非常有趣。本文分析了等离子体预处理对制备的类金刚石( DLC )涂层性能的影响，包括摩擦系数和磨损率系数的变化。采用基于低压等离子体( RF PACVD、射频等离子体辅助化学气相沉积)和介质阻挡放电( DBD )等离子体两种不同技术进行初始改性处理。测定了上述处理对PDMS表面几何结构及其水接触角和稳定性随时间变化的影响。将未改性基底上制备的DLC涂层的基本性能与等离子体预处理后的涂层进行对比。在摩擦学性能方面最有趣的影响是DBD工艺和DLC膜制作完成后，磨损率降低到2.45×10 - 8 mm3 / Nm，试验表明聚合物基体在等离子体预处理过程中发生交联。

利用等离子体技术在PDMS (聚二甲基硅氧烷)基片上沉积碳涂层的过程被广泛应用于从电子到生物的大量研究中。因此，对其功能性质，包括摩擦学性能的潜在改善显得非常有趣。本文分析了等离子体预处理对制备的类金刚石( DLC )涂层性能的影响，包括摩擦系数和磨损率系数的变化。采用基于低压等离子体( RF PACVD、射频等离子体辅助化学气相沉积)和介质阻挡放电( DBD )等离子体两种不同技术进行初始改性处理。测定了上述处理对PDMS表面几何结构及其水接触角和稳定性随时间变化的影响。将未改性基底上制备的DLC涂层的基本性能与等离子体预处理后的涂层进行对比。在摩擦学性能方面，DBD工艺和DLC涂层的制备后取得了最有趣的效果，磨损率降低到2.45×10 - 8 mm3 / Nm。