纳米模板

软光刻技术是可扩展纳米制造中最有前途的纳米制造技术之一。它使用灵活的模具或邮票，以低成本和快速的方式在平面和曲面上制作极高分辨率的纳米图案。尽管二维软光刻已被广泛的研究和应用于一些应用，但利用原子力显微镜( AFM )制备的纳米尺度三维图形进行三维软光刻的定量研究还很缺乏。本文通过实验验证了超声振动辅助AFM纳米加工在三维软光刻三维主纳米模板制备中的有效性。我们成功地应用了聚二甲基硅氧烷( PDMS )子模，从一个纳米级的三维主模板铸造，使用软光刻技术溶剂辅助微模压。此外，我们还研究了主纳米模板的质量和可重复使用性，以及PDMS模板的质量，通过自动成像配准算法量化体积差异。结果表明，对于第一、二女模铸造，轮廓简单的聚甲基丙烯酸甲酯( PMMA )主纳米模板中存在零或少的PDMS残馀物，而对于第三铸造，则有7 %的残馀物。而且较复杂的母纳米模板显示出略高的残留水平。