UVO曝光

聚二甲基硅氧烷( PDMS )薄膜和表面通过热交联得到的商用Sylgard 184，由于其优越的热稳定性、低介电常数、透明性和生物相容性，在许多科学领域得到了广泛的应用。交联PDMS表面是弱疏水性的，多次实验，特别是利用毛细管驱动的微尺度流动需要对表面润湿性进行调制。一个众所周知的实现相同的策略是在室温下将Sylgard 184表面暴露于UV /臭氧( UVO )处理。随着暴露时间的延长，润湿性由疏水性下降到近完全润湿(水接触角~ 10° )，这是由于表面形成了一层氧化层。然而，在正常的大气条件下，由于未交联的低聚物向表面扩散迁移，形成疏水的二甲基硅层，这些表面在一段时间内恢复了疏水性。我们探索了疏水回收过程与交联剂浓度和UVO曝光时间的关系，并展示了部分或完全回收的PDMS印章如何影响后续的纳米图案，包括可能通过单个印章产生不同形貌的特征。