纳米结构聚合物

我们采用Si母模，通过金属辅助化学刻蚀( MACE )工艺制备了疏水、可拉伸、皱纹图案的聚二甲基硅氧烷( PDMS )薄膜，这是一种无需掩膜的大面积薄膜制备技术。MACE制备的皱纹PDMS表面具有很高的疏水性和伸展性，这与常规工艺制备的皱纹PDMS很难实现，如等离子体处理、电子束或激光花样等。褶皱PDMS表面的接触角与微/纳米结构尺寸有关，在最佳条件下制备的薄膜最大接触角为135.8   ±   0.1 °。为了证实褶皱PDMS薄膜对柔性电子的适用性，我们通过控制薄膜中交联剂的比例来调节力学性能。杨氏模量在0.193 ~ 1.364 MPa范围内随交联剂配比的变化而变化，在250 %应变下，最佳膜层的应力为1.5MPa。