PDMS薄膜的光刻：挑战苯并菲酮与有机硅官能团的反应
通过二苯甲酮光抑制直接光刻PDMS (聚二甲基硅氧烷)，近年来受到了极大的兴趣。的确，这种技术的简单性和通用性使得微纳米孔易于加工，或者PDMS力学性能的局部控制。然而令人惊讶的是，硅氢化物与/或硅乙烯基与二苯甲酮之间的化学反应仅通过定性的方法(如衰减全反射傅里叶变换红外)来评估。在这篇通讯中，以前提出的反应途径受到挑战，使用核磁共振( NMR )光谱和尺寸排阻色谱( SEC )监测。提出了描述二苯甲酮辐照对有机硅配方加成反应作用的不同机理，最终揭示了一个涉及芳香溶剂的简化程序。