PDMS薄膜的光刻：挑战苯并菲酮与有机硅官能团的反应。

由 ty10086 提交于 周三, 08/25/2021 - 16:17
文章英文标题
Photopatterning of PDMS Films: Challenging the Reaction between Benzophenone and Silicone Functional Groups.
正文
通过二苯甲酮光抑制直接光刻PDMS (聚二甲基硅氧烷)，近年来受到了极大的兴趣。的确，这种技术的简单性和通用性使得微纳米孔易于加工，或者PDMS力学性能的局部控制。然而令人惊讶的是，硅氢化物与/或硅乙烯基与二苯甲酮之间的化学反应仅通过定性的方法(如衰减全反射傅里叶变换红外)来评估。在这篇通讯中，以前提出的反应途径受到挑战，使用核磁共振( NMR )光谱和尺寸排阻色谱( SEC )监测。提出了描述二苯甲酮辐照对有机硅配方加成反应作用的不同机理，最终揭示了一个涉及芳香溶剂的简化程序。
文章内容（英文）
Direct photopatterning of PDMS (Polydimethylsiloxane) through benzophenone photo-inhibition has received great interest in recent years. Indeed, the simplicity and versatility of this technique allows for easy processing of micro-canals, or local control of PDMS mechanical properties. Surprisingly, however, the chemical reactions between silicone hydride and/or silicone vinyl groups and benzophenone have only been assessed through qualitative methods (e.g., Attenuated total reflection fourier transform infrared). In this communication, the previously proposed reaction pathways are challenged, using nuclear magnetic resonance (NMR) spectroscopy and size exclusion chromatography (SEC) monitoring. A different mechanism depicting the role of benzophenone irradiation on the polyaddition reaction of silicone formulations is proposed, and a simplified procedure involving aromatic solvent is finally disclosed.
来源出处
Journal|[J]MaterialsVolume 14, Issue 8. 2021.
DOI
https://doi.org/10.3390/MA14082027

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