基于等离激元共振的金岛膜光学压敏膜的研制
本文设计、制备了一种基于等离子体共振吸收的光学压力敏感膜,并对其进行了表征。该膜利用聚二甲基硅氧烷( PDMS )层中的金岛膜上的等离激元共振,以共振波长的漂移作为膜的压力应变的指标。采用PDMS旋涂和真空蒸镀标称厚度为10 nm的金岛膜制备了总厚度为100 µ m的膜。通过吸光度谱的测量,验证了所制备膜的压敏性,当压力达到35 k Pa时,灵敏度达到最大值0.35 nm / k Pa。通过电磁仿真和膜拉伸试验的对比,分析了引起压力敏感性的等离子体共振模式。通过拉伸试验,得到了平行和垂直偏振方向的共振波长红移,灵敏度分别为0.372和0.134 nm / %。从电磁仿真结果来看,这些红移可以归因于金岛薄膜的带隙模式和形变模式共振。