软光掩模光刻

本文提出了一种可用于接触型光刻的软光掩模制作的创新方法。它利用液滴铺展纳米压印技术，在玻璃基底上用含有图案表面微腔的软聚二甲基硅氧烷( PDMS )模具压印一滴碳黑光刻胶( PR )。通过对PDMS模具表面和玻璃基板表面进行适当的表面处理，可以将碳黑电阻反向填充到模具表面微腔中，从而得到柔软的PDMS光掩模。在4 ″蓝宝石衬底上进行了光刻图形实验研究，获得了特征尺寸约为1 ~ 2   μ m的六方排列PR微柱。成功制作了嵌有碳黑电阻的软PDMS光掩模。在4″蓝宝石晶片上也取得了优异的光刻图形化效果，显示了在发光二极管( LED )行业制造图形化蓝宝石衬底的潜力。将讨论所提出的软光掩模光刻技术的进一步发展及其他可能的应用。