电子器件应用光固化聚二甲基硅氧烷薄膜上的选择性贵金属沉积调制
在有机表面选择性金属蒸镀是一个有趣的现象,它适用于制备各种电子和光子器件基于真空蒸镀而无需阴影掩膜的精细金属图案。然而,对于一般应用于电子领域的Au、Ag、Cu等贵金属,光致变色二芳基乙烯选择性金属气相沉积并没有成功。本文报道了贵金属蒸气在光固化聚二甲基硅氧烷( PDMS )薄膜上的沉积调制。在紫外光固化PDMS上真空沉积Au、Ag或Cu时,Au和Cu在表面甚至在未固化膜上都形成了一层薄膜。然而,未固化膜中的Ag被解吸,少量蒸发的Ag原子被吸收到膜中。这种金属物种对金属-沉积/解吸倾向的依赖性与金属物种的本征蒸汽压有关,蒸汽压高的金属倾向于解吸。有少量Ag沉积的未固化膜用正己烷冲洗后很容易取出,只剩下固化膜上的Ag。利用这一原理,用光掩模在紫外光照射下形成固化图案,利用无掩膜的Ag沉积制备了各种Ag膜图案。此外,我们通过紫外激光扫描和无掩膜Ag-汽相沉积成功制备了宽度为数微米的精细Ag图形。这种方法将适用于各种电子设备的电极/接线。