通过软光刻技术得到胺基功能化Ti3C2MXene的垂直取向纳米图形

ty10086 提交于 周三, 08/25/2021 - 16:58
文章英文标题
Vertically Aligned Nanopatterns of Amine‐Functionalized Ti3C2 MXene via Soft Lithography
正文
摘要\n叠层良好的二维MXene薄片被应用于各种应用中,特别是传感器和微型储能器件,如微型超级电容器。器件的小型化和集成化以及器件性能的最大化要求MXene的纳米级图案化,而非喷墨或丝网印刷所能实现的。然而,纳米尺度的MXene图案化技术尚不成熟。本文提出了一种简单的制备方法,利用软光刻技术制备具有垂直排列纳米图形的Ti3C2TxMXene薄膜。这一过程涉及聚二甲基硅氧烷( PDMS )冲压与线纹PDMS模具。MXene垂直线纹样的特征尺寸通过甲苯溶胀PDMS模具以纳米级精度控制,这也指导了MXene薄片的垂直对准。因此,制备了垂直取向的MXene纳米图案,脊宽小于200 nm,脊间规则间距为2–µ m。油胺功能化的MXene片层也是为了更好地分散在甲苯中,提供了在非极性溶剂中制备MXene分散体的通用协议。
文章内容(英文)
Abstract(#br)Thin films of well‐stacked two‐dimensional MXene flakes have been used in various applications, especially in sensors and microscale energy storage devices, such as micro‐supercapacitors. Miniaturization and integration of devices, as well as maximization of device performance require nanoscale patterning of MXene, beyond what can be achieved using inkjet or screen printing. However, nanoscale patterning technology for MXene is yet to be developed. In the present work, a simple fabrication method is demonstrated for manufacturing Ti\u003csub\u003e3\u003c/sub\u003eC\u003csub\u003e2\u003c/sub\u003eT \u003csub\u003ex\u003c/sub\u003e MXene films with vertically aligned nanopatterns via soft lithography. This process involves polydimethylsiloxane (PDMS) stamping with line‐patterned PDMS molds. The feature size of the vertical line patterning of MXene is controlled with the nanometers accuracy by swelling of the PDMS mold by toluene, which also guides vertical alignment of MXene flakes. As a result, vertically aligned MXene nanopatterns are fabricated with a width of ridges less than 200 nm and 2‐µm regular spacing between the ridges. The oleylamine‐functionalized MXene flakes are also developed for better dispersion in toluene, providing a general protocol to fabricate MXene dispersions in nonpolar solvents.
来源出处
Journal|[J]Advanced Materials InterfacesVolume 7, Issue 18. 2020. PP n/a-n/a
DOI
https://doi.org/10.1002/admi.202000424

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