采用部分固化的光致聚合物对全光-正方形表面进行郁金香型图案印花

ty10086 提交于 周三, 08/25/2021 - 16:02
文章英文标题
Tulip-Shaped Pattern Imprinting for Omni-Phobic Surfaces Using Partially Cured Photopolymer
正文
通过纳米压印光刻技术在薄膜上图形化纳米或微结构,可制备具有疏水、疏油、防污、防冰、抗菌、低反射等性能的功能薄膜。这里,仅利用纳米压印光刻技术和聚氨酯丙烯酸酯( PUA )树脂的阻氧固化性能,通过增加表面粗糙度和变形图形形貌,在未经化学表面处理的情况下,得到了兼具疏水性和疏油性的全疏水表面。设计了一种郁金香型图案印记工艺,该工艺采用多孔聚二甲基硅氧烷( PDMS )模具,通过高氧传输制备微米级图案。在紫外光( UV )固化过程中,与氧气反应形成固化抑制层。接下来,采用PDMS垫对固化抑制层进行加压固化,对微尺度结构进行改性。最后,利用超高功率紫外光对变形花样进行最终固化。显微观察证实花纹变形为表面粗糙度增加的郁金香状,并进行接触角测量以确认全憎性。最终固化后的印迹样品与水和油的接触角分别达到169.2°和115°,从而可以用郁金香型图案印迹的方式显示出全方位的表面。
文章内容(英文)
Functional films with hydrophobic, oleophobic, anti-fouling, anti-icing, anti-bacterial and low reflectance properties can be produced by patterning nano- or micro-structures on films via nano imprint lithography. Here, an omni-phobic surface showing both hydrophobicity and oleophobicity was obtained without chemical surface treatment by increasing the surface roughness and deforming the pattern morphology using only nano imprint lithography and the oxygen-inhibited curing properties of polyurethane acrylate (PUA) resin. A tulip-shaped pattern imprinting process was designed in which microscale patterns were fabricated using a porous polydimethylsiloxane (PDMS) mold with high oxygen transmission. During ultraviolet (UV) curing, a curing inhibiting layer was formed by reaction with oxygen. Next, a PDMS pad was used for the pressurized curing of the curing inhibition layer to modify the micro scale structures. Finally, final curing of the deformed pattern was performed using ultra high-power UV light. The deformation of the pattern into tulip-like shapes with increased surface roughness was confirmed by microscopy, and contact angle measurement was performed to confirm omni-phobicity. The final cured imprinted samples showed water and oil contact angles reaching 169.2° and 115°, respectively; thus, the omni-phobic surface could be demonstrated by a tulip-shaped pattern imprinting process.
来源出处
Journal|[J]Applied SciencesVolume 11, Issue 4. 2021. PP 1747-1747
DOI
https://doi.org/10.3390/APP11041747

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