等离子体诊断

C4F8 / O2 / Ar等离子体处理改性聚二甲基硅氧烷( PDMS )薄膜表面能特性研究

ty10086 提交于 周四, 08/26/2021 - 13:13
摘要\n我们采用电感耦合C4F8 / O2 / Ar混合气体等离子体对聚二甲基硅氧烷( PDMS )薄膜进行等离子体处理,以改性其表面性能。我们考察了等离子体特性与PDMS表面变化的关系,以期了解表面改性机理。通过表面能测量、原子力显微镜( AFM )和X射线光电子能谱( XPS )对PDMS薄膜的表面特性进行了详细的评价,通过接触角测量证实了等离子体处理PDMS薄膜的表面、极性和色散能随着O2气体比例的增加而增加。AFM分析表明,等离子体处理的PDMS表面粗糙度随O2气体比例的增加而增加。XPS分析证实了富C4F8等离子体中存在一个官能团CFx ( X = 1,2,3 ),富O2等离子体中存在一个官能团OH。证实可以通过控制C4F8 / O2 / Ar等离子体处理参数来控制PDMS薄膜的表面能,而在每个表面能不同的材料中应用直接转移技术所需的参数。