正电子湮没寿命光谱

本文采用气相色谱-质谱( GC-MS )和正电子湮没寿命谱( PALS )技术，研究了不同UVA / UVB照射时间下硅橡胶中低聚物和聚二甲基硅氧烷( PDMS )网络的变化。早期( 4 - D9降低。提取的硅橡胶在UVB照射后的阶段o-Ps强度增加。这些结果表明低聚物交联到PDMS网络中。经过较长时间后(

本文采用气相色谱-质谱( GC-MS )和正电子湮没寿命谱( PALS )技术，研究了不同UVA / UVB照射时间下硅橡胶中低聚物和聚二甲基硅氧烷( PDMS )网络的变化。在UVB辐照初期( 300 h )，D4生成，τ 3寿命也增加，表明PDMS网络中Si - O键断裂。这两个老化过程称为后固化过程和链节过程。新发现是UVA只能诱导后固化过程；UVB引起硅橡胶中化学键的断裂。UVB的光子可以打破C-H键，进而引发PDMS的反咬分解，打破Si-O键，而UVA的光子则不能。UVB照射后产生D4的事实可用于今后评价硅橡胶的UVB稳定性。