纳米压印光刻

Abstract(#br)In this paper, cell substrates with different assigned surface roughness are manufactured by two-photon polymerization (TPP) method. The surface roughness of substrate can be controlled by changing the laser power, voxel distance, and scan line gap of the 3D printing process in TPP system. The micro substrate structure manufactured by TPP will be used as a master sample for reproducing multiple replica samples by nanoimprint lithography (NIL).

研究了一种利用纳米银油墨和纳米压印技术制备银光栅的简便方法。将纳米银墨水直接在玻璃基板上和PMMA层上进行纳米压印，成功地制备了纳米银墨水光栅图形，并与热蒸发银在纳米压印PMMA上的性能进行了比较。我们发现PMMA的使用对银纳米粒子平面表面和光栅的结构、光学和电学性能产生不利影响。在玻璃基片上直接印制银纳米墨水的光栅被发现与银在纳米印制PMMA上热蒸发产生的光栅具有相似的性能，并受益于更容易的制作工艺。纳米银油墨在制备花纹银薄膜方面显示出了良好的应用前景，可能对放大和滚压工艺有一定的帮助。

为了实现微纳流控器件中纳米通道的高效、高精度制造，提出了一种将纳米压印光刻技术与以氮化硅为键合层的聚二甲基硅氧烷( PDMS )微通道集成制造纳米通道的新方法。纳米压印技术具有模板纳米grOOVe尺寸的高精度复制和一次形成大量孔道的能力等优点。通过在纳米沟槽表面沉积氮化硅，提高其与经氧等离子体处理的PDMS的结合力，可使其结合强度承受0.3 MPa以上的压力。在此溶液中制备特征尺寸为100 nm的纳米通道的准确度可达95 %以上。利用该装置进行的荧光实验表明，该装置具有更好的富集能力，其机理可以用尺寸排斥富集效应来解释。