基于MEMS光刻技术的微针阵列模具的制备。
微针阵列( MNA )作为一种经皮给药技术，具有无痛、微创、用量精确等特点。本工作讨论并比较了本课题组利用MEMS技术制备的新型MNA模具。首先，我们介绍了利用LIGA ( Photolithography，Galvanogormung，Abformung )技术获得与X射线掩模图形相似的三维结构的平面图案到截面技术( PCT )方法。在此基础上，结合聚二甲基硅氧烷( PDMS )转移技术和电镀工艺，可制备金属MNA。第二种方法是采用硅湿法刻蚀结合SU-8工艺，利用PDMS转移技术获得PDMS四棱锥MNA。第三种方法是利用倾斜旋转光刻工艺，通过PDMS转移技术在SU - 8光刻胶上获得PDMS锥形MNA。3种工艺均采用平行减法制造方法，重现性和准确度误差范围为2 ~ 11 %。LIGA技术生产长径比高达30的中空MNA，用于血液提取和药物注射。通过雕刻工艺制备的MNA高度约为600 μ m，可以达到缓释效果，同时具有潜在的系统递送作用。紫外照射制备的MNA高度约为150 μ m，用于刺激皮下组织。