Nanocube Imprint Lithography.

由 ty10086 提交于 周四, 08/26/2021 - 12:45
文章英文标题
Nanocube Imprint Lithography.
正文
近年来，压印光刻技术已成为一种很有前途的能够高速、大批量生产的图形化技术。在这项工作中，我们报告了高度重复性的一步印刷金属纳米立方体。一块单晶银立方体的干膜作为抗蚀剂，一块柔软的聚二甲基硅氧烷印章直接印上最终的图案。使用原子光滑和锐利的刻面纳米立方体，有助于在相邻立方体之间面对面排列，印刷高分辨率和定义良好的图案。它还允许数字控制在几平方毫米的面积上的直线、曲线和复杂结等图案的线宽。在垂直方向上，单粒子晶格和三维纳米图案的长径比高达5。高保真的纳米立方体图形结合先前演示的外延过生长，可以使弯曲(单晶)晶体在室温溶液或高效透明导体。
文章内容（英文）
In recent years, imprint lithography has emerged as a promising patterning technique capable of high-speed and volume production. In this work, we report highly reproducible one-step printing of metal nanocubes. A dried film of monocrystalline silver cubes serves as the resist, and a soft polydimethylsiloxane stamp directly imprints the final pattern. The use of atomically smooth and sharp faceted nanocubes facilitates the printing of high-resolution and well-defined patterns with face-to-face alignment between adjacent cubes. It also permits digital control over the line width of patterns such as straight lines, curves, and complex junctions over an area of several square millimeters. Single-particle lattices as well as three-dimensional nanopatterns are also demonstrated with an aspect ratio up to 5 in the vertical direction. The high-fidelity nanocube patterning combined with the previously demonstrated epitaxial overgrowth can enable curved (single) crystals from solution at room temperature or highly efficient transparent conductors.
来源出处
Journal|[J]ACS Nano2020.
DOI
https://doi.org/10.1021/acsnano.0c04793

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